第378章 有了林本间我们的光刻机可以领先世界30年24合1 （第3页）

    林博士除了在1975年做出了深紫外线（duv）以外，还创造出了包括1微米、075微米、05微米在内的好几项光刻技术。
    当然，最厉害的是他在1986年提出的关于浸润式微影技术的想法，目前世界上只有他的技术叫‘浸润式’，就是水泡着的那个‘浸润’，其他的技术全都是没有水的‘干式微影技术’。
    我跟你说，浸润式才是以后的大势所趋，现在世界上才刚出第二代i线光刻机，暂时还看不出。
    等发展到第三代duv光刻机、还有第四代euv光刻机的时候，全世界必须采用林博士的浸润式技术，除此以外，别的路都行不通。
    所以我才说，有了林博士，我们能领先世界三十年。”
    赵德彬的形容一点也不夸张，林本间是深紫外线duv的发明人，而后世中夏想买也买不到的极紫外线euv光刻机，也是基于林本间的‘浸润式光刻技术’研制出来的。
    在赵德彬的世界当中，目前，光刻机光源波长在止步于193纳米上，再也没有办法下降，但摩尔定律要继续发展，193纳米这个瓶颈必须要打破。
    这是因为，光刻机的光就像刻刀一样在硅片上雕刻电路，当你的芯片越来越小，你的刻刀也必须变小变薄，这就跟不能拿屠龙刀在米粒上雕花是一个道理。
    不过，在1991年还不用太愁这个事，目前，实验室里的最先进的芯片制程是05微米，也就是500纳米，而193纳米光源波长的极限是在65纳米的制程以下，这中间少说还有十来年的时间可以想办法。
    于是，整个90年代，搞光刻机的最顶尖那撮人，就为了这事犯愁，大家八仙过海、各显神通，捣鼓了好几年，总算是在90年代末期形成了两个路子：
    霓康等巨头主张在193纳米的基础上，采用157纳米的f2激光；
    而刚成立的euvllc联盟口气很大，一上来就要搞euv技术，用仅有135纳米的极紫外光解决这个问题。
    这两个方法都很难，但第二个方法基本上就是吹牛逼，对比之下，还是第一个方法靠谱，所以，大家都把希望寄托在157纳米的波长上面，很多公司都投入了重金搞研发，希望能早点做出157纳米的波长抢占市场。
    虽然行业中已经达成了共识，但林本间却不这么想。
    早在1986年，林本间在研究中发现，当前的微影技术已经进入了瓶颈，很难再向下发展，他提出了一个“浸润微影技术”
    ，并在这个技术上研究了多年。
    林本间认为，既然157纳米的波长难做，那干脆就不做，只需要维持着193纳米的波长，在镜头和光刻胶之间加一层水，经过水的折射，光线波长就可以从193纳米变成132纳米，一举突破157纳米的天堑。
    这层水，也就是“浸润”

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